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VOC废气处理设备 反应塔内装填特制的固态填料，填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层，与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触，并在多介质催化剂的催化作用下，恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围：适用范围广，尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气，对疏水性污染物质有很好的去除率。优点：占地小，投资低，运行成本低；管理方便，即开即用。缺点：耐冲击负荷，不易污染物浓度及温度变化影响，需消耗一定量的药剂。 低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态，当外加电压达到气体的着火电压时，气体分子被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。
光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
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作为大气污染的重要来源，工业废气的高校治理尤为重要。由于生产的工艺不同，工业废气产生的污染物种类也不同，不同污染物种类应采用不同的处理工艺。目前，市场上常见的工业废气治理技术主要有：干法脱硫、湿法脱硫、物理/化学吸收法、烟气脱硝、稀释法、碱液中和法等等, 由于使用不同的吸收剂可获得不同的副产物而加以利用，因此湿法脱硫是各国研究多的方法。由于工业废气的成分越来越复杂，单一的废气处理技术方法很难达到理想的处理效果。业内人士认为，综合两种或两种以上处理技术，以及占地空间小、处理效率高的设备将受到市场关注。 资料显示，治理恶臭废气的核心技术是静电等离子废气治理技术，辅助技术是酸碱洗涤技术和生物膜过滤技术。静电等离子技术是静电技术与等离子技术的完美结合的复合技术，将静电技术的吸附和凝聚特性与等离子技术的荷电和裂解特性有机组合，形成了静电等离子技术的四大技术优势：荷电、裂解、吸附和凝聚，而废气的净化就是这四种特性共同作用完成的。
